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세계지식재산권기구 중국의 지재권분야 성과 긍정 평가

[기타] | 발행시간: 2017.03.16일 16:35
본부를 제네바에 둔 세계지식재산권기구가 15일 지식재산권 영역에서 중국이 거둔 성과를 긍정적으로 평가했습니다.

프랜시스 거리 세계지식재산권기구 사무총장은 이날 제네바의 팔레데나시옹에서 진행된 기자회견에서 중국의 발전은 예외적이라며 중국의 국제특허 신청량은 1년내에 44% 증가했다고 전했습니다.

세계지식재산권기구의 통계에 따르면 2016년 특허협력조약 기틀내에서 중국의 국제특허출헌은 4만3천1백건으로 알려졌습니다.

거리 사무총장은 만약 이 수치가 계속하여 두자리수의 증가를 유지한다면 현재 세계 제3위를 차지하고 있는 중국의 국제특허출헌량이 머지않아 일본과 미국을 초과해 세계 1위를 차지 할 것이라고 내다봤습니다.

그러면서 중국의 화웨이(華爲)기술유한회사와 중흥(中興)통신주식유한회사의 신청량이 가장 눈에 띄며 모두 세계 각 대기업에서 앞자리를 차지한다고 소개했습니다.

또한 그는 중국 상표의 국제등록에 대해서도 긍정적으로 평가했습니다.

통계에 따르면 2016년 중국의 상표 국제등록신청량은 세계 제4위를 차지했습니다.

거리 사무총장은 지식재산권 분야에서 중국이 거둔 성적은 사람들의 주목을 끌고 있다며 "중국제조"로부터 "중국창조"로 과도하는 과정에서 장족의 발전을 거두었다고 표했습니다.

번역/편집: 임해숙

korean@cri.com.cn

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