[헤럴드경제=문영규 기자]국내 연구팀이 머리카락의 1만2000분의 1 크기의 미세 오염물질을 제거하는 기술을 개발했다.

포항공과대학교(POSTECH)는 반도체나 나노기술 성공에 큰 영향을 미치는 이같은 기술을 이진원 기계공학과 교수 연구팀이 개발했다고 19일 밝혔다.

이진원 교수팀은 나노 탄환 입자를 생성해 초고속으로 오염입자에 충돌시키는 방법으로 10㎚크기의 오염물질을 완벽하게 제거했다.

반도체가 저장용량을 늘리기 위해서는 내부회로의 선폭이 나노미터급까지 가늘어져야 한다. 이때 발생하는 오염물질 입자들도 작아지며 제거하기가 힘들어 이 교수팀이 개발한 기술은 최근 미세오염물질 취급이 중요한 10나노급 반도체 개발에 도움을 줄 수 있을 것으로 평가된다.

POSTECH은 이밖에도 오염제거설비 제품화와 생체조직 이용기술 분야 활용 등으로 다양한 부가가치를 창출할 수 있을 것이라고 전망했다.

이 교수팀의 연구는 교육과학기술부와 한국연구재단이 추진하는 중견연구자지원사업의 지원을 받아 수행됐으며 연구내용은 나노기술분야 권위지인 ‘나노스케일 연구(Nanoscale Research Letters)’ 최신 온라인판에 게재됐다.

이진원 교수는 이번 연구성과에 대해 “나노급 반도체는 물론 나노크기의 장치의 생산성을 좌우하는 나노오염제어기술이 완성됨으로써 나노기술을 응용한 제품의 생산성도 획기적으로 향상될 것으로 기대된다”며 “반도체 뿐 아니라 생체공학, 재료가공 등 다양한 나노가공공정에 두루 응용이 가능하다”고 밝혔다.

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